Deposição e Caracterização de Filmes Finos de GaAs e Al2O3 para potencial utilização em transistores
Documento
- Visão geral
- Pesquisas
- Identidade
- Ver todos
Visão geral
orientado por
produzido em
- SCIENCE AND TECHNOLOGY OF MATERIALS Programa de Pós-Graduação
tipo
- master thesis
autores
data de publicação
- 2009-01-01