Estudo da Nanoestrutura de Filmes Finos de Siliceto de Níquel- Ni2Si Formados Sobre Substratos de Si (100) e Si (111) a Baixas Temperaturas
Documento
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tipo
- master thesis
autores
data de publicação
- 1998-01-01
prêmio patrocinado pela
- Universidade Federal do do Rio de Janeiro Organização