OTIMIZAÇÃO DO PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES TiO2: Mn USANDO RF MAGNETRON SPUTTERING
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RF magnetron sputtering
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Spintrônica
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filmes finos
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magnetismo
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propriedades ópticas
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Óxidos Magnéticos Diluidos
Identidade
identificador BrCris
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identificador Capes
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2012433004056083P7-Publication
identificador Oasisbr
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