Ion implantation in β-Ga 2 O 3 : Physics and technology Documento

• doi:10.1116/6.0000928
• http://dx.doi.org/10.1116/6.0000928

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Visão geral

tipo

• journal article

autores

• Charles Airton Bolzan
• Pedro Luis Grande
• Raquel Giulian

data de publicação

• 2021-01-01

publicada em

• JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS 

Pesquisas

áreas de investigação

• Física da Matéria Condensada

palavras-chave

• Canalizacao
• Danificacao
• Implantação Iônica
• Ion beam analysis

Identidade

identificador BrCris

• 32682662fe58be8730a048d059f2233c
• e1881c83aab6633332ba210f56ee883c

Informação adicional documento

série

• 3

Página Inicial

• 030802

Volume

• 39

Outro

tem linguagem

• Inglês