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In situ study of the process of formation of hexagonal NiSi2 nanoplates and spherical Ni nanoparticles embedded in a Si(001) wafer covered by a Ni-doped SiO2 thin film
Documento
doi:10.1016/j.jallcom.2021.160345
http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2021.160345
http://https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925838821017540?dgcid=author
Visão geral
Pesquisas
Identidade
Informação adicional documento
Outro
Ver todos
Visão geral
tipo
journal article
autores
Aldo Felix Craievich
Daniel da Silva Costa
Guinther Kellermann
data de publicação
2021-01-01
publicada em
Journal of Alloys and Compounds
Pesquisas
palavras-chave
GISAXS
Hexagonal nanoplates
Kinetic of growth
Identidade
identificador BrCris
9a1ee94c88a415fe683c3f712d652621
Informação adicional documento
Página Inicial
160345
Volume
879
Outro
tem linguagem
Inglês