Cd implantation in $\alpha \text{−}{\mathrm{MoO}}_3$ : An atomic scale study Documento

• doi:10.1103/physrevmaterials.7.033603
• http://dx.doi.org/10.1103/physrevmaterials.7.033603
• https://journals.aps.org/prmaterials/abstract/10.1103/PhysRevMaterials.7.033603][doi:10.1103/physrevmaterials.7.033603

•  
• Visão geral
•  
• Pesquisas
•  
• Identidade
•  
• Informação adicional documento
•  
• Outro
•  
• Ver todos
•  

Visão geral

tipo

• journal article

autores

• Artur Wilson Carbonari
• Messias de Souza Costa

data de publicação

• 2023-01-01

publicada em

• Physical Review Materials 

Pesquisas

áreas de investigação

• Estados Eletrônicos
• Ressonância Mag. e Relax. na Mat. Condens; Efeitos Mosbauer; Corr. Ang. Pertubada

palavras-chave

• Electric Field Gradient
• Molbdenum oxide
• first-principles calculations
• semiconductor oxides

Identidade

identificador BrCris

• 3b314c1e62180f17b8d2da69839fc4cb

Informação adicional documento

série

• 3

Página Inicial

• 033603
• 033603-1

página final

• 033603-15

Volume

• 7

Outro

tem linguagem

• Inglês