CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS OBTIDOS POR DEPOSIÇÃO A VAPOR QUÍMICA ASSISTIDO POR PLASMA (PECVD) E DEPOSIÇÃO E IMPLANTAÇÃO IONICA POR IMERSÃO EM PLASMA (DIIIP)
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Visão geral
produzido em
- SCIENCE AND TECHNOLOGY OF MATERIALS Programa de Pós-Graduação
tipo
- master thesis
data de publicação
- 2012-05-01