Influência dos parâmetros do plasma de um Magnetron Sputtering de alvos opostos (RAMS) no controle do crescimento de filmes finos de Hidroxiapatita, com substituições iônicas para aplicações Biomédicas Documento

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Academic Program: Doctorate and Master Degree in Physics Programa de Pós-Graduação

tipo

doctoral thesis

autores

Elvis Oswaldo López Meza

data de publicação

2014-01-01

prêmio patrocinado pela

CENTRO BRASILEIRO DE PESQUISAS FÍSICAS Organização