Preparação de filmes policristalinos de GaN pela técnica de sputtering reativo a baixas temperaturas de substrato
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Visão geral
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data de publicação
Pesquisas
áreas de investigação
palavras-chave
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GaN
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Preparação de Filmes
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Propriedades Estruturais
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Sputtering
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alvo
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policristalino
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sputtering
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temperatura de substrato
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textura
Identidade
identificador BrCris
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7f8acd0faf4d040188b9aeb00f0e4a5f
identificador Capes
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20091533004056083P7-Publication
identificador Oasisbr
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UNSP_94f8852c6109f5d95019d28df4371db9