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An experimental and theoretical approach on the impact of the precursor?s pulse time on the growth per cycle and crystallinity quality of TiO2 thin films grown by ALD and PEALD technique
Documento
doi:10.3389/fmech.2020.551085
http://dx.doi.org/10.3389/fmech.2020.551085
http://https://www.frontiersin.org/articles/10.3389/fmech.2020.551085/full][doi:10.3389/fmech.2020.551085
Visão geral
Pesquisas
Identidade
Informação adicional documento
Outro
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Visão geral
tipo
journal article
autores
Homero Santiago Maciel
Mariana Amorim Fraga
Rodrigo Savio Pessoa
William Chiappim Junior
data de publicação
2020-01-01
publicada em
Frontiers In Mechanical Engineering-Switzerland
Pesquisas
palavras-chave
Atomic Layer Deposition
plasma enhanced atomic layer deposition
Identidade
identificador BrCris
a9f2b89e58c5bbe039675de4d5d8860b
c67fba6717973cff3140f80380a23f83
Informação adicional documento
série
3
Página Inicial
1
551085-1
página final
15
551085-18
Volume
10
6
Outro
tem linguagem
Inglês