Luís Fernando da Silva
Atualmente é Professor Adjunto no Departamento de Física da Universidade Federal de São Carlos (UFSCar). Graduado em Física pela Universidade Estadual Paulista (2006), Mestre e Doutor em Ciência e Engenharia de Materiais pela Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo (2009; 2013), recebendo o prêmio de melhor Tese de Doutorado pela CAPES. Atua na área de processamento de óxidos semicondutores preparados por métodos físicos e químicos. As principais técnicas de caracterização aplicadas são microscopia eletrônica (SEM e HRTEM), espectroscopia de absorção de raios-X (XANES e EXAFS), espectroscopia de fotoelétrons por raios X (XPS), e de fotoluminescência. Realizou período sanduíche de doutorado na equipe de Microcapteurs na Université Aix-Marseille (Marselha, França), que consistiu no estudo de nanoestruturas semicondutoras aplicadas como sensores de gases tóxicos. Também realizou estágio de Pós-Doutorado (2016) no grupo de Materiais Multifuncionais da ETH Zürich (Zurique, Suíça), sob a supervisão do Prof. Markus Niederberger, que consistiu no processamento de heteroestruturas via microondas visando a fabricação de sensores de gás e de dispositivos para geração de energia. Atuou como professor visitante no Institut Matériaux Microélectronique Nanosciences de Provence (Marseille, França), e no Department of Chemistry da University College London (UCL), Londres, UK.
He is currently professor at Department of Physics, FederalUniversity of São Carlos, Brazil. He received his PhD in Materials and Engineeringfrom São Carlos School of Engineering, University of São Paulo (Brazil) with a Post-doctoral fellowship in the Laboratory for Multifunctional Materials, Department of Materials, at ETH Zürich, Switzerland. His research interests mostly deals with synthesis of oxide compounds via chemical methods and the characterization of thesecompounds by X-ray absorption spectroscopy (XAS), photoluminescence, transmission and scanning electron microscopy and the electrical gas sensing properties of these oxide compounds.
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