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Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologias CMOS e MEMS
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membro de
https://brcris.ibict.br/individual/comm_ee459614-d3fc-461b-b7eb-f628e356a377
orientado por
Stanislav A. Moshkalev
tipo
master thesis
data de publicação
2005-01-01
Pesquisas
áreas de investigação
ENGENHARIAS
Materiais e Componentes Semicondutores
palavras-chave
MEMS
corrosão por plasma
descarga RF
microfabricação
polysilicon
Identidade
identificador BrCris
e77863c99e01cfe8770a4c0c6b1c92aa