Characterization of Plasma-deposited a-C:H:Si:F:N Films Documento

• doi:10.1590/1980-5373-mr-2021-0016
• http://dx.doi.org/10.1590/1980-5373-mr-2021-0016
• http://https://doi.org/10.1590/1980-5373-MR-2021-0016
• http://https://www.scielo.br/j/mr/a/gdrPS6LKsv9PwHjgFSw5H9y/

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Visão geral

tipo

• journal article

autores

• ELIDIANE CIPRIANO RANGEL
• Juliana Feletto Silveira Costa Lopes
• Steven Frederich Durrant

data de publicação

• 2021-01-01

publicada em

• Materials Research-ibero-american Journal of Materials 

Pesquisas

áreas de investigação

• Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos

palavras-chave

• Optical Properties
• PECVD
• a-C:H:Si:F:N
• optical properties
• thin films

Identidade

identificador BrCris

• 7ae7c778fb8f6e7afdce05619742f042

Informação adicional documento

série

• 1
• suppl 1

Página Inicial

• e20210016

Volume

• 24

Outro

tem linguagem

• Inglês