Atualmente é Professor Associado no Laboratório de Plasmas Tecnológicos da UNESP do Sorocaba, SP. (É Livre Docente em Ciência e Tecnologia de Filmes Finos pela UNESP, 2010).
Tem experiência profissional ampla em várias áreas de física e química analítica.
Linhas de pesquisa: Física de sólidos com ênfase em Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos. Áreas específicas: Filmes finos, Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma, Análise de materiais empregando IRS, XPS, UVS e similares.
É graduado em Física pela Universidade de Birmingham, Inglaterra (1981), mestre em Física Médica pela Universidade de Surrey (1986) e doutor em Espectrometria de massas pela Universidade de Surrey (1989). Fez vários estágio de pós-doutorado, incluindo na Universidade de Massachusetts, MA, EUA, e no Laboratório de Processos de Plasma do IFGW, da UNICAMP, Campinas, SP.
ResearcherID: C-1048-2012
Orcid: 0000-0002-4511-3768
Currently he is an Associate Professor based at the Technological Plasmas Laboratory, UNESP, Sorocaba, SP, Brazil. He has professional experience in physics and analytical chemistry.
Research interests include the following: Physics of solids and surfaces; PECVD and the characterization of thin films; materials analysis using IRS, XPS, UVS and similar techniques.
Graduate in Physics (Hons) from Birmingham University (1981), Masters in Medical Physics from the University of Surrey (1986) and Doctor in Mass spectrometry, University of Surrey (1989). Livre Docente in The Science and Technology of Thin Films (UNESP, 2020).
ResearcherID C-1048-2012
Orcid: 0000-0002-4511-3768