Role of the Plasma Activation Degree on Densification of Organosilicon Films
Documento
-
- Visão geral
-
- Pesquisas
-
- Identidade
-
- Informação adicional documento
-
- Outro
-
- Ver todos
-
Visão geral
tipo
data de publicação
publicada em
Pesquisas
áreas de investigação
palavras-chave
-
HMDSO
-
PECVD
-
SiOxCyHz
-
corrosion barrier
-
densification
-
organosilicon films
Identidade
identificador BrCris
-
2dd36e1a4c69563e50152dcf1aced868
Outro