Estudo e Implementação de um Processo de Fabricação de Microponteiras de Si, Utilizando Plasma de Hexafluoreto de Enxofre e Oxigênio.
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Visão geral
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Pesquisas
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palavras-chave
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Dispositivo de Emissão por Campo
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Método de Elementos Finitos
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Plasma de RF
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Reactive Ion Etching
Identidade
identificador BrCris
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f7bc01283702dc0f6b03aa195c79ffb4
identificador Capes
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20042356033003017021P3-Publication
identificador Oasisbr
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UNICAMP-30_8bf028b2985d9c4712bcec4812f89bdc