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Um Processo CMOS de Cavidade Dupla para Comprimento de Porta de 2um
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membro de
https://brcris.ibict.br/individual/comm_ee459614-d3fc-461b-b7eb-f628e356a377
orientado por
Jacobus Willibrordus Swart
tipo
doctoral thesis
autores
Prof. Dr. João Antonio Martino
data de publicação
1988-01-01
Pesquisas
áreas de investigação
Materiais e Componentes Semicondutores
palavras-chave
CMOS
Circuitos Integrados
Silício
Identidade
identificador BrCris
abed997f2914c05ee7d2b8821d679a67