Um processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2 micrômetros Documento

https://doi.org/10.11606/T.3.1988.tde-23052022-110719

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membro de

orientado por

Jacobus Willibrordus Swart

produzido em

https://brcris.ibict.br/individual/cour_8e315e82-33a6-470e-bfed-bd2f56bdd88a
GRADUATION IN ELECTRICAL ENGINEERING Programa de Pós-Graduação

tipo

doctoral thesis

autores

Prof. Dr. João Antonio Martino

data de publicação

1988-01-01

prêmio patrocinado pela

USP ( ESCOLA SUPERIOR DE AGRICULTURA LUIZ DE QUEIROZ ) Organização